ENCIMA del tipo horizontal máquina de capa de cristal del ion PVD del Multi-arco de la pulsera

(1). Fuente de alimentación: trifásico de cinco cables, el 380V±5%, 50Hz, con la resistencia de tierra<5>

(2). Aire comprimido: 0.5~0.7Mpa

(3). El agua de enfriamiento puede utilizar el agua del grifo de ciudad, agua desionizada es la mejor. La temperatura del agua de enfriamiento debe

menos que 25℃. La presión de agua debe ser 0.2Mpa a 0.4Mpa. Y el recurso hídrico debe tener

capacidad de añadir la nueva agua en tarifa más de cientos litros por minuto.

(4). Condición ambiental: El piso, el techo y las paredes deben ser limpios. El aire interior debe ser limpio, seco y

ninguno-polvo. Gas no inflamable, explosivo y corrosivo dentro.

El principio del arco voltaico está integrando descarga de arco fría del cátodo que la luz autónoma une pulso

técnica y tecnología de la farfulla del magnetrón, enrareciendo las partículas para mejorar las propiedades del

película. Puede cubrir en la superficie del metal así como del no metal.

La máquina es consiste en la cámara de vacío, sistema de bombeo del vacío, fuente de alimentación diagonal, sistema de capa,

sistema giratorio del objeto, sistema de enfriamiento y sistema que controla eléctrico

Tipo de la estructura: Tipo vertical o tipo horizontal

Tipo de la cámara: sola puerta o puertas dobles

 
 
1. Él fuente secundaria del ion criogénico de los equipos, un poco de substrato sin la calefacción del material, él
 
puede hacer directamente la película fría de la galjanoplastia en la temperatura ambiente, ahorra energía, aumenta productividad.
 
 
2. El máximo de la temperatura para la cámara de capa de la herramienta puede 600 grados, además de la herramienta
 
Los usos de la capa de la máquina de pintar requieren el aparato de la calefacción, otros usos no necesitan el dispositivo.
 
 
3. alta tarifa de deposición, alta velocidad de la capa, puede ser ampliamente utilizada hacer la capa decorativa, funcional
 
capa en una variedad de productos. Es tan un equipo ideal para hacer la capa de alto grado y mejor para la masa
 
producción.
 
 
4. el principio de la farfulla del magnetrón se basa en la teoría de la descarga de resplandor de cátodo, él gasta
 
campo magnético superficial del cátodo cerca de la superficie del pedazo del trabajo. Entonces mejora el átomo farfullado
 
tarifa de la ionización. Guarda la uniformidad de la farfulla del magnetrón, también puede mejorar el efecto brillante superficial.
 
 
5. La fuente de la evaporación del plasma del arco es confiable, él puede trabajar bajo corriente 40A en la optimización del cátodo
 
y la estructura del campo magnético. Sucederá difusión atómica entre la capa y el material. Él
 
también tiene las ventajas que el haz del lon ayudó a la deposición.
 
 
6. limpie el sistema de bombeo con la aspiradora, sistema de control eléctrico y el sistema completo de la vacuometalización puede ser
 
modificado para requisitos particulares según exigencias del consumidor.